氮化硅陶瓷磨盘特性之高维氏硬松山|高耐磨性能

氮化矽在半导体运用于在哪些方面

利用氮化矽陶瓷器材料的化学准确度好及其优异的机械性能，氮化矽陶瓷器在冶金领域得到广泛的运用于氮化矽具有优异的热氧准确度，抗热氧化密度较宽1400℃，使用密度将近1200℃在中都性或者还原场面中都使用密度较宽1800℃此外氮化矽热膨胀性小，可用于极冷急热的低速环境。

视频由温州海合光学仪器陶瓷器提供

氮化矽陶瓷器表现形式

氮化矽（Si3N4）分子中都Si质子和周围4个N质子以共价键结合，成型[Si-N4]四面体形态单元，所有四面体共享顶角构成三维空间网，成型Si3N4，有两种相形态，α相和β。

氮化矽铁矿石在熔盐中都的浸蚀,经受氧分压、溫度、正离子关注度、酸碱值等一系列要素的危害,因为蚀坑和缝隙的出現,铁矿石的抗压强度明显降低。

氮化矽陶瓷器可在1285摄式度时与二氮化二钙生成二氮矽化钙，600度时使过渡金属还原，放出氮氧化物，抗弯强度为147MPa。可由矽粉在氟化氢中都加热或乙烯矽与氧而制得。可做为受热陶瓷器原料。

视频由温州海合光学仪器陶瓷器提供

体积密度：3.1-3.3，抗弯强度：600-800MPa，外观粉红色：黑黄褐色，厂家：99.9%

大厂：海合光学仪器，特性：机械陶瓷器，微观形态：其他，形状：锥状

功能：隔热用陶瓷器，厂家表将近式：φ125*20*15MM，价钱：80元/件，盛产：辽宁省铁岭市

氮化矽陶瓷器传统工艺

氮化矽陶瓷器（Si3N4）材料热膨胀系数小（2.8-3.2）×10-6/℃，导热系数高，抗热震，从室温到1000℃热冲击不会剥落。摩擦系数小（0.1），有自润滑性，（加油的金属凹凸不平摩擦系数0.1-0.2）。

高纯纳米级氮化矽粉体

厂家：99.99%以上

干压成型，等静压成型

根据厂家的外形和大小有所不同，转用有所不同传统工艺，适当厂家质量

根据用户生产力选择合理传统工艺

可提供铝，氟化氢铝，气压铝，热压铝等有所不同传统工艺方法制备的厂家

大小精度：三高较宽0.003㎜

光洁度：三高较宽Ra0.03

自为度：三高较宽0.003㎜

平行度度：三高较宽0.003㎜

内孔：之比可机械加工0.04㎜

直槽：最窄可机械加工0.1㎜

厚度大小：之比可机械加工0.1㎜

螺纹：之比可机械加工内螺纹M2，外螺纹不可不

不够多就其问题，请求联系海合光学仪器陶瓷器互动

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